[kofi]

Intel เดินเครื่องยิงเลเซอร์ EUV สำหรับโรงงาน intel 4

image

การเริ่มเดิมเครื่อง Intel 4 เป็นผลดีต่ออินเทลในการใช้กระบวนการแบบ EUV ของเครื่อง ASML สำเร็จ นั้นหมายถึงการได้เทคโนโลยีใหม่ในการลดขนาดนาโนเหลือ 7 นาโนจาก 10 นาโนเดิมและใช้ Optimized FinFET ปรับปรุงประสิทธิภาพในการใช้พลังงานภายใน ชื่อที่จะใช้ในการจำหน่ายในปี 2023 คือ Meteor Lake,Xe-HPC / Xe-HP,Gen Raptor Lake

image 1

และภายในปี 2023 น่าจะสามารถลดขนาดไปที่ 5 นาโนเมตรในลำดับถัดไป โดยเทคโนโลยีนาโนของ Intel ยังตามหลังคู่แข่งอย่าง AMD ที่ใช้วิธีการจ้างโรงงายภายนอกอย่าง TSMC ที่ในตอนนี้ข้ามไปเริ่มเดิมหน้าผลิต 3 นาโนแล้ว

image 2


ทำให้ Intel ตกเป็นม้ารองในตลาดไปโดยปริยาย แต่ด้วยการปรับแต่งมาอย่างดีที่ผลักดันระดับ 10 นาโนมาอย่างยาวนานทำให้มีประสิทธิภาพทัดเทียมกับเทคโนโลยี 5 นาโนก่อนหน้าได้อย่างไร้ข้อกังขา แต่ปัญหาใหญ่คือเรื่องพลังงานต่ออัตราการประมวลผลที่ยังคงใช้พลังงานมากและมีความร้อนสูง

image 3

ตามเผยแผนงานใหม่ Intel ได้เปลี่ยนชื่อการเรียกจาก Tik-Tok ไปเป็นตัวเลจ โดยจะเรียกเทคโนโลยี 7 nm และ 7+ แบบเดิมจะถูกเรียกแทนว่า “Intel 4” และ “Intel 3” ตามลำดับ ในขณะที่ผลิตภัณฑ์ในอนาคต 5 nm และ 5+ จะถูกเปลี่ยนชื่อเป็น “Intel 20A” และ “Intel 18A ” ตามลำดับ โดยตัว “A” ในชื่อเหล่านั้นหมายถึง Angstrom ซึ่งเป็นยุคใหม่ของเซมิคอนดักเตอร์ที่จะใช้ประโยชน์จากเทคโนโลยีกระบวนการที่ก้าวล้ำ

อย่างน้อย Intel จะต้องใช้เวลาอีก 4 ปีเพื่อก้าวผ่าน ระดับที่ต่ำกว่า 7 นาโน ไปที่ 5 – 4 – 3 นาโนตามลำดับ เพราะจำเป็นจะต้องลงทุนในโรงงานของตัวเองด้วยการเปิดรับผลิตชิบจากภายนอกด้วยเพื่อนำเงินมาลงทุนกับเครื่อง EVU

ที่มา – intel , blognone

โดเนท

[kofi]

Simscolony
Simscolonyhttp://simscolony.com
ซิมส์โคโลนี

Latest